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SKIN 1004 - Madagascar Centella Masque
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Centella Asiatica Extract, Water, Dipropylene Glycol, Glycereth-26, Glycerin, 1,2-Hexanediol, Betaine, Butylene Glycol, Paeonia Suffruticosa Root Extract, Polyglyceryl-10 Laurate, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Glyceryl Caprylate, Carbomer, Xanthan Gum, Arginine, Ethylhexylglycerin, Sodium Hyaluronate, Dextrin, Theobroma Cacao (Cocoa) Extract, Propanediol, Coptis Japonica Root Extract, Mentha Arvensis Leaf Oil, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Hydrolyzed Glycosaminoglycans, Benzyl Glycol, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Hyaluronic Acid, Raspberry Ketone, Disodium EDTA
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